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日本CKD高真空用電磁閥HVB
產品簡介

日本CKD高真空用電磁閥HVB
日本 CKD HVB 系列高真空用電磁閥,是專為高真空系統精準控制開發的直動式 2 通閥件,核心優勢在于1×10??Pa??/s 以下的超低泄漏率,可穩定適配從低真空到高真空的全壓力區間,是半導體制造、二次電池生產等精密工業場景的核心控制元件。

產品型號:HVB 12 Series
更新時間:2025-09-30
廠商性質:經銷商
訪問量:121
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日本CKD高真空用電磁閥HVB

日本CKD高真空用電磁閥HVB

一、產品定義與核心技術優勢

HVB 系列是 CKD 針對高真空環境流體通斷控制開發的專用直動式 2 通電磁閥,核心原理是通過電磁線圈通電產生的磁場直接驅動閥芯軸向移動,實現流路的快速啟閉,其 “高真空專用性" 體現在全維度的性能優化,可滿足精密制造領域對真空保持性、潔凈度及可靠性的需求。

核心技術亮點

  1. 超低泄漏真空保持技術:采用彈性密封結構與精密閥芯加工工藝,真空泄漏量控制在 1×10??Pa??/s 以下,遠優于普通真空閥的泄漏標準,能有效維持真空系統的極限壓力,減少抽真空時間與能耗。

  2. 制程潔凈材質設計:流路部與滑動部嚴格規避銅、鋅、鎳系材料及電解鍍鎳工藝,閥體主體采用 SUS316L 不銹鋼,密封件選用耐真空的 PCTFE 等材質,避免金屬離子析出污染半導體晶圓或電池極片,符合精密制造的潔凈要求。

  3. 全規格流量覆蓋能力:提供 HVB212 至 HVB712 共 7 個型號,幅寬從 22mm 遞增至 70mm,節流孔徑對應 Φ1、Φ2 直至 Φ12、Φ15,Cv 值隨孔徑線性變化,可精準匹配不同真空管路的流量需求,無需更換閥組即可適配多工況場景。

  4. 靈活可靠連接系統:標配 VCR 兼容接頭(JXR 接頭)與雙卡套接頭一體型設計,接頭密封性能經過真空級驗證,可直接對接真空容器與配管,避免傳統連接方式的真空泄漏隱患,安裝適配性更強。

二、工作原理與關鍵技術參數

1. 工作原理詳解(以常閉型為例)

  • 斷電狀態:電磁線圈無勵磁,閥芯在復位彈簧作用下處于關閉位,通過彈性密封件緊密貼合閥座,流路切斷,真空系統保持密封狀態;

  • 通電啟動:線圈通電產生磁場,克服彈簧力吸附閥芯向上移動,閥座開啟,流路導通,實現真空管路的介質輸送或壓力調節;

  • 動作特性:直動式結構無需壓差輔助,動作響應速度快,且避免了先導式結構的壓力死區問題,在 0 至 1.0MPa 差壓范圍內均能穩定動作,適配真空系統啟停及運行中的全壓力變化。

2. 關鍵技術參數(按型號分類)

參數類別小口徑型號(HVB212~HVB412)中口徑型號(HVB512~HVB712)備注說明
使用流體惰性氣體、工藝氣體、真空環境惰性氣體、工藝氣體、真空環境不可用于腐蝕性氣體或含固體顆粒介質
真空泄漏量≤1×10??Pa??/s(He 氣測試)≤1×10??Pa??/s(He 氣測試)行業頂級泄漏控制標準
使用差壓范圍0~1.0MPa0~1.0MPa支持真空至正壓全范圍使用
幅寬尺寸22mm、28mm、34mm40mm、60mm、70mm對應不同安裝空間需求
節流孔徑Φ1、Φ2、Φ3、Φ4.5、Φ6Φ4.5、Φ6、Φ8、Φ12、Φ15孔徑決定流量,可按需選擇
額定電壓AC100V、AC200V、DC24VAC100V、AC200V、DC24V50/60Hz 通用(AC 型)
環境溫度5~60℃5~60℃避免線圈暴露于高溫輻射區域
連接方式雙卡套接頭、VCR 兼容接頭雙卡套接頭、VCR 兼容接頭確保真空密封性能
重量0.3~0.8kg1.0~2.5kg薄型線圈設計,輕量化優勢顯著

三、型號體系與適用場景

1. 型號命名規則與分類

HVB 系列型號以 “HVBXXX-XX - 電壓" 為基礎格式,核心后綴含義如下:
  • 型號前綴:HVB 為系列標識,代表高真空用直動式電磁閥;

  • 幅寬代碼:212(22mm)、312(28mm)、412(34mm)、512(40mm)、612(60mm)、712(70mm),幅寬對應閥體安裝尺寸;

  • 孔徑規格:后綴數字代表節流孔徑,如 HVB412-Φ6 表示 34mm 幅寬、Φ6 孔徑型號;

  • 電壓標識:末尾標注 AC100V、DC24V 等電壓規格,可按需定制。

2. 典型適用場景

  • 半導體制造行業:Φ1-Φ3 小口徑型號用于離子注入機、薄膜沉積設備的工藝氣體控制,超低泄漏率避免雜質氣體混入影響晶圓質量,潔凈材質設計符合 SEMI 標準;

  • 二次電池生產領域:HVB412-HVB612 型號適配極片真空干燥機、電解液注入設備,金屬污染控制特性可防止電池自放電率升高,提升電池循環壽命;

  • 真空鍍膜場景:Φ8-Φ12 中口徑型號用于真空鍍膜機的進氣控制,快速動作特性可精準調節鍍膜氣體流量,保證膜層均勻性;

  • 實驗室設備:HVB212-HVB312 小尺寸型號適配小型真空腔體、質譜儀的真空管路控制,輕量緊湊設計節省設備內部空間。

四、安裝與維護要點

1. 安裝規范

  • 潔凈預處理:安裝前必須用異丙醇(IPA)或(MEK)清洗管路內壁,去除油污、粉塵及金屬碎屑,避免雜質造成閥芯卡堵或密封失效,嚴禁使用水或商用溶劑清洗;

  • 連接密封要求:采用 VCR 接頭時需按規定扭矩緊固,雙卡套接頭需確保管材切口平整,安裝后需進行氦質譜檢漏,確認泄漏率符合系統要求;

  • 安裝方向與空間:建議垂直安裝(閥芯軸線豎直),線圈朝上避免冷凝水積聚;閥體周圍預留至少 5cm 散熱空間,避免與高溫部件直接接觸;

  • 電氣接線規范:嚴格匹配額定電壓,接線端子需做好絕緣密封,潮濕或粉塵環境需加裝防水防塵接線盒,避免電氣故障影響真空系統運行。

2. 維護保養指南

  • 定期泄漏檢測:每 3-6 個月使用氦質譜儀檢測閥座及接頭密封性能,若泄漏量超過 1×10??Pa??/s,需及時更換密封件(優先選用原廠真空級配件);

  • 閥芯清潔維護:每年 1 次拆解檢查閥芯與閥座,清除附著的污染物,清潔后需重新進行密封性測試,確保無泄漏后方可 reinstall;

  • 線圈狀態監測:定期檢查線圈溫度(正常運行溫度應≤60℃),若出現過熱、異響等問題,需立即停機更換線圈組件,不可單獨維修繞組;

  • 長期停放保護:停用超過 1 個月時,需向閥體內充入干燥惰性氣體(如 N?)至常壓,封堵所有接口,存放于干燥潔凈環境,避免密封件老化或閥芯銹蝕。

五、選型與安全注意事項

1. 選型三要素

  1. 按真空度選密封等級:超高真空系統(≤1×10??Pa)需確認泄漏率達標,普通高真空系統可按流量需求匹配,優先選擇原廠預檢漏型號;

  2. 按流量選孔徑規格:小流量工藝控制(<1L/min)選 Φ1-Φ3 型號(HVB212-HVB312),中流量管路(1-10L/min)選 Φ4.5-Φ8 型號(HVB412-HVB512),大流量系統(>10L/min)選 Φ12-Φ15 型號(HVB612-HVB712);

  3. 按制程選材質兼容:半導體、電池等精密制造場景需確認材質無金屬污染,腐蝕性氣體環境需提前定制耐蝕衍生型號。

2. 安全警示

  • 嚴禁在超過 1.0MPa 差壓或 - 20~60℃環境溫度范圍外使用,避免閥體結構損壞或密封失效;

  • 維修前必須切斷電源并對系統卸壓,待真空度降至常壓后再操作,防止負壓吸傷或介質噴射風險;

  • 不可用于爆炸性氣體環境,如需防爆需定制防爆型型號,常規型號不具備防爆能力;

  • 安裝與維護必須由專業真空技術人員操作,避免因操作不當導致系統真空失效或設備損壞。

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